VATがスイスのFair-ON-Pay Advancedの再認証を取得
常に進化し続けるプロセスと、複雑化する最先端ファブにより、半導体製造は絶え間ない革新のサイクルを続けています。分子程度の大きさのパーティクルが半導体チップを破壊し、歩留まりを低下させるため、真空バルブにはパーティクル回避(ウェーハの欠陥を防ぐ)と信頼性の面で妥協のない性能が求められます。
このような急速な技術革新により、半導体メーカーが投資を償却し、生産コストを削減できる時間は限られています。VATの真空バルブソリューションは、バルブの迅速な性能向上、装置の稼働時間の延長、運用コストの削減を実現し、投資の早期回収を可能にします。
VATの真空バルブソリューションがどのように半導体製造の問題を解決できるかについては、以下の特定のアプリケーションを選択してください。