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碳化硅:从专用走向主流市场的半导体
虽然几乎每种电子产品都内置了硅芯片,但有些应用对硅芯片的效率要求会更高。碳化硅芯片作为硅芯片的高性能替代品,愈发得到广泛应用,而 VAT 提供的真空解决方案能够使碳化硅芯片在越来越多的应用中可持续使用。(2分钟阅读)
与功能仅限于完全打开和关闭的真空隔离阀不同,真空控制阀可以控制体积流量。 这通常通过缩小或加宽阀门通道实现的。 控制范围因调节阀的设计原理而异。 这也称为可用电导谱。 具有非常大电导谱的阀门通常比具有小电导谱的阀门允许更精细的体积控制。 然而,设计原理和驱动类型对于阀门控制的精细度和精度也具有决定性作用。 真空控制阀主要是电驱动的,因为电驱动通常允许阀板非常精细和快速的位置变化。 两者对于精确控制都至关重要。 然而,除了电动控制阀外,还有气动解决方案,例如,移动到机械预定义的控制位置或手动解决方案。 真空控制阀也可作为无隔离功能的纯控制阀使用,即它们从不完全密封并始终允许最小的残余体积流量,或者作为控制和隔离阀也可以完全中断体积流量。
真空控制阀有多种不同的设计,因为真空系统的控制要求千差万别。 因此,在选择真空控制阀时,以下标准是决定性的:
1)阀门所要控制的最大压差水平。如果它还具有隔离功能,就不一定是阀门关闭时能承受的最大压差。
2)所要求的电导率谱的大小和其控制范围。
3)流速的大小
4)进行体积流量变化的速度
5)对体积流中的副产品或一般的侵蚀性介质的抵抗力。
6)对流量变化的敏感性,如控制过程引起的湍流。
7)对可能通过阀门排放的颗粒的敏感性。
8)阀门使用的环境温度和控制的环境温度。
9)可控性的类型为线性流量变化或动态变化,在所谓的控制曲线中,控制速度可以独立于阀板的位置而控制。
基本上,真空控制阀被用于需要精确控制真空度的地方。例如,这对于CVD和ALD过程的精细控制是必要的。在半导体和显示器生产中,它们被用于溅射和蚀刻过程。同样,真空控制阀也用于超高真空的情况,如EUV。
真空控制阀主要用于高真空场合。然而,通过特殊规格(UHV控制闸阀),控制阀也可用于超高真空工艺。